Substance Designer 2021 for Mac(三维贴图材质纹理设计软件) v11.1.2(2021.1.2)激活版

substance designer mac破解版是一个基于节点的纹理合成工具，允许您创建Substance文件或位图纹理。您可以使用它来纹理资产并烘焙模型信息（例如：法线，位移，曲率等）。同时也是首款可以混合应用位图, 矢量图和其他元素的专业贴图工具，可以制作复杂的贴图。它包含广泛的工具，材料和程序效果库，可帮助您在完全非破坏性的工作流程中实现目标。欢迎有需要的朋友们前来本站下载使用！此软件测试环境为10.14.4系统！

Substance Designer 2021 for Mac安装教程

Substance Designer破解版镜像包下载完成后打开，将左侧的【Substance Designer】拖到右侧的应用程序中即可。

Substance Designer 2021 for Mac软件介绍

substance designer 2020它将智能纹理技术带入了3D 创建管线的中心。它致力于帮助美工将各种类型的图形资源转变为实时动态和高度灵活的纹理和过滤器。substance designer 2020是一款功能非常强大好用的材质制作软件，是基于节点的纹理合成工具，允许您创建物质文件或位图纹理，您可以使用substance designer 2020来纹理资产并烘焙模型信息它包含大量工具，材料和程序效果库，帮助您在完全无损的工作流程中实现您的目标。

Substance Designer 2020破解版功能介绍

创建，迭代

物质设计师是最终的3D材料创作和扫描处理工具。它已成为PBR材料创作的娱乐行业标准。 

材料创作

创建完全控制和无限变化的材料。立即编辑完整的纹理集，并生成将在渲染器或游戏引擎中直接处理的物质纹理和MDL材质。 

物质文件（.sbsar）

创建可在上下文中调整的物质文件 

花木纹理

以32位浮动的方式生成高达8K大小的可贴图纹理

 物料

为Iray，V-Ray和Adobe Felix制作MDL材料 

扫描处理

过程扫描归功于适用于摄影测量工作流程的滤镜和工具。Substance Designer mac 破解版具有一套完整的工具和过滤器，包括：裁剪工具，颜色均衡器工具，提取通道过滤器（多角度反射率，多角度到正常，正常到高度），智能修补程序克隆工具，智能自动瓷砖工具。

适应您的工作流程

使用物质材质或将纹理导出到任何渲染器，游戏引擎，DCC工具或投资组合站点。 

基于节点的非破坏流

物质设计器具有4种图形类型：平铺纹理，MDL材料，数学函数和噪声编辑器。使用基于程序节点的非线流程立即编辑完整的纹理集。想在工作中改变一些东西？在保持当前工作完好的同时，更改任何先前的步骤。

基于节点的图形 MDL材料 数学函数 噪音编辑器 

强大的发电机，工具和过滤器

为程序和混合工作流程组合大量预设过滤器和工具。访问并修改所有过滤器的来源。 

集成的全功能面包机

用一整套面包师快速，轻松地烘烤。使用物质设计器创建高达8K分辨率的非均匀（非方形）烘烤。面包师包括：AO，法线，ID，高度，曲率，位置，polypAInt，弯曲法线，颜色映射，UV到SVG，不透明蒙板，厚度，转换纹理，世界空间方向，世界空间法线。

Substance Designer 2020破解版新增功能

Substance Designer 2020.1包括一个新的快捷方式编辑器，一个MaterialX插件以及许多使用Adobe Color Engine进行色彩管理的新改进以及新的bakers功能。
从此版本开始，应用程序版本号将更改其格式。本来应该是2020.1的东西现在变成了  10.1.0。
主要特点
用于创建节点的新快捷方式编辑器在此版本中，我们引入了一个新的快捷方式编辑器，该快捷方式编辑器允许定义键盘快捷方式以加快在不同图形模式下创建节点的速度。可通过“ 编辑”>“首选项”>“快捷方式”在主要首选项中访问新的快捷方式编辑器。默认情况下，每个快捷方式字段为空。
每种图形类型的快捷方式可以为Substance Designer中可用的每种图形类型定义快捷方式，从常规的合成图形到更高级的功能（例如功能和MDL）。为原子节点和自定义过滤器分配快捷方式默认情况下，界面显示每种图形类型的原子节点。使用搜索字段可以优化列表，还可以访问自定义库过滤器和节点：

创建新的快捷方式
要为特定节点创建新的快捷方式，只需单击其名称旁边的文本字段，然后在键盘上键入所需的键。要清除快捷方式，请使用十字按钮。

管理快捷方式冲突
使用警告图标上的工具提示可了解有关冲突的更多信息。它提到了密钥是否与现有密钥冲突，或者应用程序已将其用于其他目的。

搜索快捷
方式如果要跟踪的快捷方式太多或默认情况下节点不可见，请使用搜索系统将其隔离：

新MaterialX插件（测试版）

在SIGGRAPH 2019期间，我们演示了用于Substance Designer的MaterialX插件。 MaterialX是由Industrial Light＆Magic（ILM）开发的一种格式，允许艺术家创建可以在各种平台和许多用途（例如电影，电视节目，游戏，VR体验和制造）中使用的材料。这个新插件现已在Beta中提供，它允许创建MaterialX材料以用于其他兼容的DCC应用程序。看看我们最近  关于MaterialX的文章，  以了解有关此新插件背后的过程和目标的更多信息。

这个新的插件可以：

并行开发程序着色器和纹理。

为Substance PAInter创建高级着色器，其功能包括在运行时可更改的细节图和程序蒙版。

在Substance Designer和Substance PAInter视口中匹配游戏引擎或VFX管道中的着色器功能。
要获取该插件，只需前往Substance Share下载即可。

Adobe Color Engine（ACE）的新集成
除了OpenColorIO，现在还可以使用Adobe Color Engine（ACE）支持ICC配置文件进行颜色管理。这意味着您现在可以导入和导出经过校准的图像，以匹配其他软件，例如Photoshop和illustrator。

启用Adobe Color Engine
使用项目设置来定义要使用的颜色管理系统：

更改屏幕配置文件
通过2D或3D视图预览图像时，请使用下拉菜单指定要使用的配置文件：

旧版色彩管理
的ACES现在，旧版色彩管理模式可提供ACES色调映射的输出转换。
改良面包师

我们通过以下两个主要方面对一些面包师进行了改进：

改进的采样
环境光阻塞，厚度和曲率面包师现在使用一种新的采样方法，可以大大提高烘焙结果的质量。它产生了更吸引人的噪音和更稳定的结果，而无需增加样本数量。下图在顶部显示了以前的采样方法，在底部显示了新方法，从左到右分别有4、8和16个采样（所有渲染均通过将抗锯齿设置为4x4子采样来完成）。

新的规范化设置
“厚度”和“高度图”烘焙器具有一个新的规范化参数，使您可以将原始值烘焙到纹理中，而不是0-1范围内的固定值。这对于高度图很有用，例如了解低多边形和高多边形网格之间的原始距离。除数值将精确对应于要在低多边形网格上设置的位移强度以匹配高多边形网格轮廓。为了正确地解释高度图，我们还公开了一个新的“标量零值”参数来定义对应于0的像素值。此外，手动系数可以解决由于每个UV-Tile引起的UDIM网格上的潜在接缝问题正常化。

改进的3D视图
3D视图改善了生活质量，使日常工作更加愉快：

渲染
器之间的参数同步现在，着色器参数在OpenGl和Iray之间同步，这使它们之间的跳转变得更加容易。

显示纹理输入预览并添加禁用参数
着色器输入参数现在可以显示其输入预览：它可以是统一的颜色参数，图形节点或位图。也可以取消选中某个参数以暂时禁用它。

设置中的环境贴图预览
转到  3D视图>环境>编辑时  ，现在可以预览用于照亮场景的环境贴图。

新的不亮着色器
默认情况下，包含一个名为“不亮”的新着色器。它不会对任何光照产生反应，而可以用于在网格上的视口中显示单个纹理。例如，这对于查看烘焙纹理很有用。

视口缩小后，在高DPI屏幕上的性能得到了改进与
Substance PAInter相似，现在在主要首选项中有一个名为Viewport Scaling的新参数，它检测到屏幕使用HDPI缩放（例如MacOS上的Retina屏幕），并将自动划分视口分辨率by2。此行为可避免以太高分辨率绘制视口并提高总体性能。
当前设置值为：
无：无视口缩放。
自动（默认）：如果应用程序在HDPI屏幕上，则视口分辨率将除以2。

新内容
此版本还包括一些新的或改进的节点：

改进的PBR Render节点
在先前版本中已经引入，此节点已得到极大改进。现在，它提供了摄像头控件，新形状（例如飞机和圆柱体），后效果（景深，光晕/眩光，小插图等）以及新的材料类型（例如透明涂层和各向异性）以及支持用于不透明的材料。
有关更多信息，请参见专用文档页面。

新的PBR Render映射节点
作为PBR Render的扩展，您可以使用此新节点来构建复合地图通道预览。
有关更多信息，请参见专用文档页面。

新的FXAA滤波器
新的滤波器实现了快速近似抗锯齿（FXAA）算法，这是一种抗锯齿方法。可以在常规纹理上使用，以平滑锯齿状的线条或边缘。
有关更多信息，请参见专用文档页面。

新的Hald CLUT过滤器
此过滤器允许使用输入查找表（LUT）调整图像的色调和颜色。它使用Hald CLUT格式，从此处可用的标识LUT开始创建一个。
有关更多信息，请参见专用文档页面。

Substance Designer Mac版系统要求

最低要求

版本：10.12（Sierra）

记忆体：4GB RAM

显卡 ：2GB VRAM

推荐的

版本：10.14（Mojave）或以上

记忆体：16GB RAM

显卡：4GB VRAM

- 为了在舒适的条件下工作，我们建议使用分辨率大于1兆像素且宽度大于1280像素的显示器。

- 为了在MacOS 10.15（Catalina）上运行，仅对版本2019.x及更高版本进行了公证。

- 在CentOS 7.5或更早的版本上，由于库依赖***问题（FT_Get_Font_Format错误），应用程序可能无法启动。我们建议您更新系统或安装以下库。

- 如果OpenGL 3.3上下文可用，则可以进行远程桌面连接。它将在Nvidia Quadro上运行，但不能在Nvidia GeForce上运行，因为它仅提供OpenGL 1.4上下文。如果这是一个问题，我们建议使用其他解决方案，例如VNC / Teamviewer。

支持的GPU

以下是与该应用程序兼容的GPU的列表：

Intel HD 5000 / IRis Pro 6200及以上

NVIDIA GeForce GTX 600

NVIDIA Quadro K2000及更高版本

AMD Radeon HD 7000及更高版本

AMD Radeon Pro WX系列/ Pro Duo及以上

AMD FirePro W系列/ FirePro S系列及更高版本