The Foundry Mari for Mac(3D纹理贴图制软件) 4.7v7激活版

The Foundry Mari for Mac是Mac平台上一款能够绘制任何你想要模型的3D纹理绘画图制软件，mari4.7破解版能够在界面上看到实时的效果情况，节省用户的时间。The Foundry Mari Mac版具有充分的三平面投影的优势，提供了多种模式和过滤器，以实现更高效的工作流程。最新版本通过艺术家友好的3D绘画工具来充分利用您的创造力。

mari破解教程

下载完成后打开“mari4.7破解版”安装包，将左侧【Mari】拖入右侧应用程序进行安装，如图：

完成以上步骤即可开始使用Foundry Mari破解版！！！

mari破解版软件介绍

Mari 版是一款全新的3D纹理绘制软件，使用为用户提供了完善的无限制3D绘画功能和工具，不管是多复杂的资产，你都可以使用它来进行快速的纹理绘制操作，为用户创建精彩的视觉特效、动画等，随着软件的不断更新发展，可满足对更高分辨率纹理的支持，使用更加自由和灵活。充分发挥你的创意。

The Foundry Mari For Mac软件特征

Mari是无限制的3D绘画，它结合了强大的性能和性能，即使是最复杂的资产，也可以通过艺术家友好的3D绘画工具来充分利用您的创造力。

MARI 新增功能

Mari 为我们的材料系统带来了更新，引入了新的地理通道，以及大量新的过程节点，这些过程节点提供了多种模式和过滤器，以实现更高效的工作流程。我们与3Delight和VRay背后的团队合作，使艺术家可以更接近他们在Mari上的渲染效果，从而减少了Mari和Katana之间往返的需要。

3D投影画

3D绘画无极限

Mari使艺术家摆脱了分辨率和复杂性的限制。有了对UDIM工作流程的全面支持，您可以处理数百个高分辨率纹理贴图，就好像它们是单个图块一样。使用Mari，唯一的限制就是您的想象力。

投影画

不要被束缚-Mari的基于投影的绘画系统允许艺术家在将其提交到模型之前进行调整和编辑以进行绘画。艺术家可以在虚拟的玻璃上绘画，在整个资源的上下文中预览其绘画，进行2D调整（例如变形），然后在所有纹理贴图上进行烘焙。

程序性工作流程

无损层堆栈和节点图

Mari的非破坏性图层系统使您可以自由地将涂料与调整层，程序和蒙版混合使用，以构建着色器。无论您是在传统图层堆栈中工作，还是直接在节点图中建立和编辑连接，都可以随意重新排序，添加和删除图层；随时更改混合模式；然后将各层烘烤或弄平。

程序，调整层和蒙版

广泛的程序使创建所需外观变得容易。调整层使您可以实时地对绘画进行无损过滤或颜色分级。通过喷涂遮罩，使用过程或使用诸如边缘，深度，背面甚至环境光遮挡的表面属性，控制在何处施加涂料。

物料系统

在一个应用程序中设计和应用预设

Mari的材料系统使艺术家能够快速轻松地创建不太复杂，数量更多的资产，或者为英雄资产奠定基础。Mari的工作流程使艺术家能够使用材质预设快速遮挡资产的外观，而不必从头开始。然后，艺术家可以使用Mari的所有详细绘画功能来完成并完成最终的艺术指导，从而在一个应用程序中为艺术家提供两全其美的体验。

摄取PBR纹理集

Mari允许艺术家快速导入并将任何一组PBR纹理贴图转换为Mari材质预设。材质提取工具可创建预设，设置控件，并将所有内容加载到Mari架子上以供使用，以使您不断增长材质库。艺术家可以通过Mari轻松摄取数千种PBR纹理集。

可扩展的质量

复杂的几何处理

Mari可以在不降低速度的情况下针对单个拓扑扩展到超过一百万个多边形，并轻松处理动画几何，Mari可以应对最困难的生产网格。Mari还可以通过UDIM为每个模型支持数千个纹理，每个纹理的最大像素为32K x 32K，因此您可以创建几乎无限细节的超现实资产。

简化外观开发

借助Mari的着色器，艺术家可以知道自己的艺术在最终渲染中看起来是正确的，从而可以以更高的置信度在Mari中绘画纹理。与渲染器供应商合作，我们为您带来了四个着色器：3Delight，VRay，Unreal和Arnold，从而减少了Mari和Katana以及其他DCC程序之间的往返路程。

生产线准备就绪

无缝数据交换

Mari提供了对行业标准格式的支持，例如FBX，OBJ，Alembic和OpenEXR。Mari原生绘制细分曲面模型，并具有由OpenSubdiv驱动的视口平滑功能。没有UV，没有问题：Mari支持Ptex格式替代基于UV的纹理贴图。

OCIO色彩管理

借助OpenColorIO（OCIO）支持，您可以通过设置单个配置文件以在整个板上提供一致的颜色来处理多个应用程序中的颜色转换和图像显示。Mari的实现消除了将图像预处理或后处理到正确的色彩空间中的需求，从而节省了时间并减少了错误。艺术家可以享受所见即所得的颜色选择，使艺术家可以在多个色彩空间中保持持久的感知色彩。

广泛的Python API

Mari具有广泛的Python API，因此技术人员可以自动化工作流程，而工作室可以将Mari集成到他们的管道中。Mari是基于Qt5构建的，可以通过Python访问PySide2 API，可以编写具有用户界面的自定义美术工具，并将其直接集成到Mari应用程序主窗口中。

mari新增功能

地理频道

Mari的新地理通道无缝集成到“材质”系统中，从而允许材质外观由诸如“曲率”和“环境光遮挡”之类的网格图驱动。

地理频道

地理通道是对象上的插槽，用于存储命名的网格特定纹理贴图，这些贴图可以从磁盘导入，也可以通过烘焙点，通道或Modo烘焙预设从项目中导出。现在，美工人员可以直接将其网格图动态注入到“节点图”或“图层堆栈”中，因为“地理通道”节点和“图层”只需选择名称即可显示任何地理通道的纹理图。

将网络同步到地理通道

通过Mari的“烘焙点”节点中的“同步烘焙”选项，艺术家可以将当前项目中图形网络的结果共享给所有接收的“地理通道”节点。地理通道可以用作缓存点，从而允许复杂的节点共享所有节点，而不会导致节点图中的共享连接混乱。

节点图

利用Mari极其强大的Node Graph进行材质设计，现在可以提供更好的用户体验。

可折叠节点

为所有节点引入三种不同的崩溃状态，以减少视觉上混乱的节点图并提高灵活性。“完全扩展”选项显示与现有Mari版本相同的所有端口，而“仅连接”选项显示与另一个节点具有连接的端口。“完全折叠”选项隐藏所有端口，仅显示路由到节点标题栏的传入和传出连接。这些都可以在您的节点图中实现更清洁，更有效的导航。

多通道流折叠节点

Mari针对多通道节点的新流折叠模式通过将并行流连接分组为单个连接来优化节点图中的空间。减少了复杂图形的视觉混乱，这使艺术家可以更有效地浏览其材料驱动的项目。艺术家可以在两个多流端口之间建立单个连接，并在引擎盖下将所有代表的流端口连接在一起，而不会造成视觉混乱。

改进的节点自动放置

我们对自动布局逻辑进行了重新设计，将所有上游节点对齐到等距的列中，合并节点链沿布局顶部形成了主干。这改善了复杂的图形布局，使其更易于遵循。

新程序节点

在Mari 4.6中探索各种新的过程模式和过滤器，使您能够在Materials和项目内部创建更复杂的，非破坏性的节点网络。

投影节点

引入新的摄影测量和贴花放置工作流程。现在，美工人员可以将“定位器”与“投影仪”节点连接起来，以驱动平面，圆柱和球形投影。Mari的投影仪相机现在可以驱动新的Camera Projection节点，以将相机静止图像动态地投影到您的摄影测量模型上。

曲率

探索我们实时生成的模型曲率，该曲率可用于模型形式驱动的程序外观。

新的分形节点

我们添加了使用fBm和Voronoi分形算法生成有机图案的程序，以及新的Marble分形。

新模式

探索Mari的新模式程序，包括Bricks，Checkerboard，Scratches和Weave。在新的AtlasRandom节点旁边，该节点将输入图像随机化，可以将其与其他过程结合使用。

数学运算符

探索我们对Mari现有运算符所做的改进，例如现在具有默认值的Add和Multiply，您不再需要随附的Constant节点。另外，我们为您的过程网络引入了大量加法运算符，包括：Ceil，距离，地板，分形，长度，混合，Mod，规范化，Pow，Sqrt和VectorDot。

杂项 实用工具

我们引入了一些新的有用的实用程序节点，包括节点对VectorSplit和VectorCombine。这些可用于将RGB绘画分解为它们的组件，以便可以单独对其进行编辑，然后再次进行组合。以及NormalStrength可以增强或柔化法线贴图。

简化外观开发

Mari 4.6带来了3Delight和VRay团队的两个新的rendor供应商提供的近似着色器。使用Mari的着色器，可以减少在Mari和Katana之间以及其他DCC程序之间来回切换的需要，并且画家可以放心地绘画，因为他们知道最终的渲染中它们的艺术将是正确的。

VRay着色器

新的VRayMtl着色器减少了Mari，Maya和其他软件之间的反馈循环，因此艺术家可以绘画纹理，并确保其艺术品在最终渲染中正确无误。

3Delight Shader

当使用Mari的3Delight渲染引擎绘画纹理时，新的3Delight Surface Shader可以使艺术家对其工作充满信心。

物料系统改进

Mari 4.6提供了可自定义的Material文件图标，并对Material Ingestion Tool进行了改进，从而允许更多艺术家自定义以及Material创建过程的广泛自动化。

自定义材质缩略图

现在，您可以使用Mari自定义生成的材质缩略图。在Mari的首选项中，您可以设置自己的型号，相机和要使用的环境。另外，您可以添加自己的自定义地理通道，这些通道可用于生成材料预设图标。

自定义材质缩略图

现在，您可以使用Mari自定义生成的材质缩略图。在Mari的首选项中，您可以设置自己的型号，相机和要使用的环境。另外，您可以添加自己的自定义地理通道，这些通道可用于生成材料预设图标。

提取工具可以使用自定义材料模板

使用“提取工具”生成更复杂的基准生成材料，该工具现在可以使用“自定义材料模板”。借助定制的升级控件和用户驱动的子图形网络，可以更轻松地自动创建材料预设。通过指定有效的模板材料文件，“材料提取工具”将创建模板的副本，并将找到的PBR纹理贴图注入模板材料中其用户驱动的位置。

提取工具可以显示搜索结果

材质摄取工具现在可以基于工具UI中的设置搜索条件显示找到的PBR纹理集的表。新的构建选项允许您仅运行提取过程的搜索阶段，并在弹出窗口中显示搜索结果。这样可以加快PBR命名约定搜索条件配置的迭代速度。

mari软件系统要求

最低硬件要求

处理器四核处理器

存储至少10 GB的磁盘空间可用于缓存和临时文件

内存最小4 GB

显示最低1680 x 1050像素分辨率

显示卡具有最新驱动程序，1 GB图形内存和OpenGL 3.2 *或更高版本的NVIDIA或AMD显卡

*位移预览当前仅在支持OpenGL 4.0或更高版本的卡和驱动程序上可用

推荐的硬件要求

处理器2.5+ Ghz四核处理器

存储250+ GB磁盘空间可用于缓存和临时文件。强烈建议使用SSD。

内存16 GB，带有额外的虚拟内存*

显示最低1920 x 1080像素分辨率

显示卡具有最新驱动程序，2 GB以上的图形内存和OpenGL 4.4的NVIDIA或AMD显卡

*使用虚拟内存可以提高稳定性，并有助于防止大型项目中的数据丢失。

虽然这些是大多数用户的推荐规格，但要求可能会因使用情况而异。

经过测试的工作站硬件

苹果

MacPro6,1

iMacPro1,1

MacBookPro14,3

MacBookPro16,1

生命值

惠普XW6600

惠普Z600

惠普Z620

惠普Z640

HP Z8 G4工作站

NVIDIA Prosumer显卡

NVIDIA®Geforce GTX 660TI

NVIDIA®Titan X

NVIDIA®Geforce GT 650M

NVIDIA®Geforce GT 675M

NVIDIA企业图形卡

NVIDIA®Quadro®4000

NVIDIA®Quadro®K4200

NVIDIA®Quadro®K5000

NVIDIA®Quadro®M6000

NVIDIA®Quadro®M6000 24 GB

NVIDIA®Quadro®P5000

NVIDIA®Quadro®P6000

NVIDIA®Quadro®RTX 6000

NVIDIA®Quadro®RTX 8000

AMD Prosumer显卡

AMD Radeon HD-D500

AMD FirePro D500 3 GB

AMD Radeon Pro 560 4 GB

AMD Radeon Pro Vega 64 16 GB

这些是Foundry与Mari一起测试的配置。由于市场上计算机硬件的不断变化和种类繁多，我们无法对硬件进行正式认证。

从NVIDIA或AMD网站下载并安装最新的图形驱动程序。确保对AMD卡使用的是8.982.8.1驱动程序或更高版本。

mari软件更新日志

Mari 4除了修正错误外，还具有一些新功能和功能增强。

重新设计的货架调色板

引入了更新的书架调色板，以允许艺术家轻松组织其内容。可以对货架进行分组和分类，以改善项目或展览之间的组织。现在，您还可以按物料类型，名称或“物料和自定义程序”的标签跨单个或多个货架搜索内容。

货架标签

现在为某些书架项目分配了标签，以便更有效地进行库过滤。对于材料或自定义程序，可以在导出之前和之后添加标签。标签可用于搜索特定类型的材料的货架内容，并可随时在材料的“节点属性”中进行编辑，或者在“货架”调板中右键单击材料并选择“编辑标签”。

程序蒙版

现在，您可以从一种名为“自定义过程”节点的新型“组”节点开始，编写自己的过程掩码。导出此节点后，所有参考纹理贴图将被***到一个打包的文件中，并带有***的缩略图以显示在架子上，从而更容易与团队共享。可以将过程蒙版导入到“节点图”中，也可以将其直接作为蒙版导入到图层上，所有提升的属性均可用于非破坏***流程。

定制程序

像程序蒙版一样，您现在也可以组成自己的自定义程序层。美工可以将一组过程节点堆叠在一个简单的“自定义过程”节点中，这些节点可以共享到图层堆栈中，以给出独特的最终外观。与程序蒙版一样，“自定义程序”可以在“节点图”和“层”堆栈中使用，同时让美术师完全控制调整和提升属性，而无需深入子图。

物料烘烤点节点

在使用“节点图”中的材料时，可以使用“多通道烘烤点”节点，以降低项目的复杂性。多通道烘焙点节点使您可以在一个位置为每个着色器流批量创建和管理单独的烘焙点节点。

烘焙点到纹理流

在Mari 4.7中，我们已将后期处理添加到“烘焙点导出”功能中。这意味着Look Development美工现在可以包括命令行过程，这些过程可以通过一个无缝的多线程背景进程将导出的图像文件转换为渲染引擎本机纹理文件。现在，艺术家可以将Mari纹理数据直接流式化为Katana内的第三方渲染引擎格式，从而可以更快更有效地迭代绘制数据，并将其输入到Katana Network Materials中。

材料隔离

添加了新的“当前材质”着色器类型，使美术人员可以快速切换为在完整的“着色器”预览中查看其选定的“材质”，而无需破坏性地调整其“用户着色器”。美工可以轻松地彼此***地调整各个材质的外观，而不会影响下游着色器。现在，在NodeGraph中，所有“多通道”节点都提供新的输出，以在完整的Shader预览中一起查看所有输出流。

节点图增强

尽管Node Graph始终倡导精简而强大的工作流程，但仍进行了新的改进，以更好地匹配Mari，Nuke和Katana的用户体验。为了提高艺术家的效率，添加了用于选择和导航的新键盘手势，以及用于多通道节点的上下文感知节点创建。